新的光學(xué)系統(tǒng)令 ECLIPSE煥發(fā)新風(fēng)采
ECLIPSE 顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造，可滿足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經(jīng)過(guò)不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。
用戶可以選擇使用電動(dòng)和手動(dòng)操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以便滿足任何應(yīng)用需求。
CFI60-2 經(jīng)過(guò)改進(jìn)的光學(xué)性能
以的高數(shù)值孔徑和長(zhǎng)工作距離設(shè)計(jì)理念而著稱的尼康 CFI60 光學(xué)系統(tǒng)；
經(jīng)過(guò)進(jìn)一步改進(jìn)，具有的長(zhǎng)工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
輕松的操作 與數(shù)碼相機(jī)集成
現(xiàn)在可以使用數(shù)碼控制裝置來(lái)檢測(cè)包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對(duì)顯微鏡進(jìn)行電動(dòng)操作，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝。
特點(diǎn)：
觀察方法
可支持多種觀察方法：明場(chǎng)、暗場(chǎng)、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測(cè)量等。
半導(dǎo)體（IC晶片）
從物鏡到照明系統(tǒng)，LV-N系列采取了的防眩光措施，確保生成明亮、高對(duì)比度的圖像。
半導(dǎo)體（IC晶片）
采用尼康設(shè)計(jì)理念開(kāi)發(fā)的物鏡暗場(chǎng)照明系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)明亮的暗場(chǎng)觀察，從而可對(duì)標(biāo)本差異和缺陷進(jìn)行高靈敏度的檢測(cè)。
基板
可使用適合標(biāo)本觀察的標(biāo)準(zhǔn)型和高對(duì)比度型DIC插片。LV-N系列十分適合觀察設(shè)備和精密模具中的細(xì)微差異等應(yīng)用。
基板（焊點(diǎn)）
LV-N系列在觀察有機(jī)EL或安裝的基板等具有熒光性質(zhì)的標(biāo)本時(shí)表現(xiàn)出了的性能。
礦物質(zhì)
LV-N系列十分適合觀察具有雙折射性質(zhì)的標(biāo)本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。
云母
LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型雙光束干涉測(cè)量法。當(dāng)配合使用測(cè)微計(jì)目鏡時(shí)，可在不接觸標(biāo)本的情況下檢測(cè)和測(cè)量標(biāo)本的細(xì)微差異。
