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上海研潤光機科技
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MC020系列測量平臺MC020系列（TA610、TA620、TA630、TA631、TA650）TA610測量平臺：1、齒條升降，立柱可以隨意轉動，用來測量不容易放置的工件，可提高測量精度
MC020系列測量平臺
MC020系列（TA610、TA620、TA630、TA631、TA650）
TA610測量平臺：
1、齒條升降，立柱可以隨意轉動，用來測量不容易放置的工件，可提高測量精度。
2、花崗巖平臺工作面精度：00級（平面公差值3μm）
3、花崗巖平臺大小尺寸：
4、垂直升降高度：
5、垂直升降微調量：
TA620測量平臺：
1、絲桿升降，平臺上設置V型槽，用來測量形狀較小的工件，可提高測量精度。
2、花崗巖平臺工作面精度：00級（平面公差值3μm）
3、花崗巖平臺大小尺寸：
4、垂直升降高度：300±
5、升降回程誤差：≤手輪旋轉1/6圈
TA630微調平臺：
1、X—Y平面轉角，俯仰角。
2、調整范圍：X向 ±
3、旋轉角度：粗調 360 微調±5 俯仰角度 0～5
TA631微調平臺：
1、X—Y平面轉角。
2、調整范圍：X向 ±
3、旋轉角度：粗調 360 微調±5
TA650測量平臺（TR300專用）
1、垂直方向上的升降高度：300±
2、垂直方向上的旋轉角度：±45°
3、回程誤差：不大于手輪的1／6圈
4、平臺的平面度：00級
5、平臺尺寸：600 X 420 X
6、總高度：
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