詳細摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產品型號：CESx124所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
邁可諾技術有限公司
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詳細摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產品型號：CESx124所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 手動型SCS112SCS112型是一款高效率手動型的系統，專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片。可通過施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環（抓環）或膠片框架...
產品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產品型號：WS-1000M所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： Laurell-EDC勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠...
產品型號：EDC-650HZ-23NPPB所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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