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半導體廢水回用設備
工業的生產離不開水，大多數工業企業都是高耗水行業，尤其是半導體行業，在生產中不可避免地產生含有各種污染物的廢水，其中含氟離子、含銅離子和含磷廢水更為嚴重。
半導體工業廢水主要包括硅片切割、磨削的廢水和半導體器件封裝外殼的電鍍廢水兩部分，其中半導體器件封裝外殼的電鍍廢水主要是指半導體集成電路器件封裝外殼的電鍍廢水和半導體分立器件封裝外殼的電鍍廢水，即在封裝外殼的金屬部件上層疊起導電和防腐作用的金屬層時產生的廢水，污染物主要是酸、堿、錫、鉛、銅、鎳等金屬離子以及有機物和有機絡合物。硅片切割磨削廢水是在硅片切割磨削過程中產生的，其中含有大量亞微米級硅顆粒、幾十納米以下金剛砂磨粒和清洗劑。
半導體廢水回用設備
萊特萊德半導體廢水處理設備針對半導體廢水的特點及處理難點，采用Neterfo極限分離系統，具有無變相、無污染、高效率、低耗能等諸多優點，該系統發揮了膜的優勢和性能，半導體廢水經過處理后，可大量回收廢水中的有害重金屬離子，并且不會造成二次污染，使水資源實現再次利用。Neterfo極限分離系統是針對三高廢水專門開發的一套膜深度處理系統，系統采用錯流式PON抗污染技術、POM寬通道高架橋旁路技術等技術，實現高回收率和低能耗的廢水處理效果，是廢水回用、物料濃縮和分離等領域的理想選擇。
