詳細摘要： 磁控濺射鍍膜機是應用泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-22 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
北京中科科美科技股份有限公司
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詳細摘要： 磁控濺射鍍膜機是應用泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-22 在線留言
詳細摘要： 該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-21 在線留言
詳細摘要： 該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-20 在線留言
詳細摘要： 該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質膜等，用戶可以根據工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-19 在線留言
詳細摘要： 該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構，四對電極可單獨或共蒸發，樣品Φ300（max），樣品臺公自...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-18 在線留言
詳細摘要： 該設備在同一真空室內具有熱蒸發和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍...
產品型號：所在地：更新時間：2023-12-17 在線留言
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