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CVD石墨烯生長爐

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更新時間:2022-12-20 14:54:44瀏覽次數:495次

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產品簡介

CVD石墨烯生長爐專門針對于用在金屬箔上生長薄膜物質,如石墨烯、使用時把金屬箔附在內管上

詳細介紹

CVD石墨烯生長爐專門針對于用在金屬箔上生長薄膜物質,如石墨烯、使用時把金屬箔附在內管上。其工作溫度可以達到1200℃,專門針對于用CVD化學氣相沉積方法在金屬箔上生長薄膜物質,如石墨烯、太陽能電池的電極材料和電池電極材料等。

 

石墨烯生長爐由HTTF1200真空管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成 ,溫度可以達到1200,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。

 

石墨烯生長爐是一種特殊的CVD系統(化學氣相沉積系統),是專門為在金屬箔(像銅箔、鋁箔等)上生長薄膜而設計,廣泛應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究上,特別適用于碳納米管、碳納米線、石墨烯的生長。

 

HTTF-1200真空管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表,能進行30段程序控溫,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、節能等優點。

真空管式爐軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PVSV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。

 

產品名稱

石墨烯生長爐(納米管生長爐)

產品型號

HTTF-1200-CVD

管式爐

加熱區長度

440mm

恒溫區長度

150 (+/-1 )

工作溫度

1100℃(此溫度為長期加熱溫度)

溫度

1200

爐管尺寸

Φ60×1440mm

等離子射頻電源

輸出功率

500W    ± 1% . 

射頻頻率

13.56 MHz    ±0.005% .

反射功率

200W 

阻抗匹配

自動

真空泵機組(雙極旋片泵)

真空度

10-3torr

波紋管

KFD25 快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連.

質量流量計

四通道控制

精度0.02% 、數字顯示、自動控制、 一個混氣罐、底部裝有泄廢液口

MFC 1范圍

0~100 sccm 

MFC 23

0~500 sccm  

進氣接口

1/4NPS

出氣接口

1/4NPS

水冷系統

水冷法蘭要求

水流量 >= 10L/M ,配有專業水冷機組

 

石墨烯生長爐標準配件:

質子混氣系統1臺、雙旋機械泵1臺、水冷系統1臺、K型熱電偶1支、氣煉石英爐管1根、不銹鋼法蘭1套、不銹鋼爐鉤1、剛玉爐塞2對、高溫手套1副、剛玉坩堝2個、說明書1.


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