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北京艾博智業離子技術有限公司


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磁控離子濺射儀

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具體成交價以合同協議為準

產品型號GVC-2000

品       牌

廠商性質其他

所  在  地

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更新時間:2023-10-21 10:36:07瀏覽次數:177次

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產品簡介

1.技術參數:輸入電壓AC220V±10%

詳細介紹

1.技術參數:

輸入電壓

AC220V±10%,50Hz

工作電壓

DC2400V

功率(主機與機械泵)

500W

工作原理

磁控濺射

可選靶材

金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬

真空泵

兩級直聯旋片式真空泵 1L/s

真空腔

φ128×130mm

樣品杯

φ90×1 / φ25×4 / φ15×6

整機尺寸(長×寬×高)

424×271×255(mm)

重量(主機)

11 kg

工作環境

溫度 5~40℃,濕度<60%

存儲環境

溫度-10~60℃,濕度<80%

工作氣體

Air / Ar

保護功能

過流、真空雙保護


2.效果圖:

2.1 陶瓷濾膜鉑靶10萬倍( SU5500 ):

GCV-2000陶.png


2.2 噴金樣品電鏡觀測圖對比

GVC-2000: 樣品形貌真實完整:

GCV-2000penjin.png


其他設備噴金的效果圖(熱損傷嚴重):

其他設備噴金.png





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